本實用新型屬于真空鍍膜領(lǐng)域，具體涉及一種新型真空鍍膜機。
背景技術(shù)：
真空鍍膜在工業(yè)上應(yīng)用很廣泛，在蒸鍍過程中，在蒸發(fā)源的高熱量下，當薄膜運行速度小于一定值時極易熔斷，速度快了鍍膜厚度又達不到要求。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
根據(jù)上述闡述，本實用新型的目的在于提供一種新型真空鍍膜機，可以使基材在不至于速度過低被熔斷的情況下達到有效增加鍍層金屬厚度的目的。
本實用新型提供的技術(shù)方案：一種新型真空鍍膜機，包括抽真空的箱體，所述箱體內(nèi)的左右兩端的上部分別設(shè)有基材放卷軸和基材收卷軸，所述基材放卷軸和基材收卷軸之間的下方設(shè)有多個冷卻輥，所述冷卻輥的下方分別設(shè)置有一個蒸發(fā)源。
在上述技術(shù)方案中，所述基材放卷軸和冷卻輥之間、相鄰冷卻輥之間以及冷卻輥和基材收卷軸之間分別設(shè)有轉(zhuǎn)軸。
在上述技術(shù)方案中，所述箱體右側(cè)上部還設(shè)置有一個觀察窗。
本實用新型在一套真空鍍膜機加入多個蒸發(fā)源對運動中的基材進行連續(xù)不斷的蒸鍍沉積，并對每次蒸鍍進行冷卻，可以使基材在不至于速度過低被熔斷的情況下達到有效增加鍍層金屬厚度的目的。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中：1、箱體；2、真空泵；3、基材放卷軸；4、冷卻輥；5、轉(zhuǎn)軸；6、基材收卷軸；7、蒸發(fā)源；8、觀察窗。
具體實施方式
下面對本實用新型的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
本實用新型提供了一種新型真空鍍膜機，包括抽真空的箱體，箱體一側(cè)設(shè)有真空泵，箱體內(nèi)的左右兩端的上部分別設(shè)有基材放卷軸和基材收卷軸，基材放卷軸和基材收卷軸之間的下方設(shè)有多個冷卻輥，冷卻輥的下方分別設(shè)置有一個蒸發(fā)源。箱體右側(cè)上部還設(shè)置有一個觀察窗，用于觀察箱內(nèi)情況。
基材放卷軸和冷卻輥之間、相鄰冷卻輥之間以及冷卻輥和基材收卷軸之間分別設(shè)有轉(zhuǎn)軸。
一種鍍膜工藝，包括以下步驟：將基材卷在基材放卷軸上，先后通過多個冷卻輥進行多次鍍膜后到達基材收卷軸。本實施方式中冷卻輥的數(shù)量大于等于兩個，基材為2-12μm的PET薄膜或OPP(鄰苯基苯酚)薄膜，蒸發(fā)源的加熱溫度為1400-2000℃，基材的運行速度5-100米/分鐘。
本實用新型在一次裝料一次抽真空情況下，對薄膜進行多次蒸鍍，多次冷卻，在保證薄膜不被熔斷的前提下，有效的增加了金屬鍍層的厚度，大大提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護范圍為準。
